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NanoX-2000系列
 
       Nano X-2000采用垂直扫描白光干涉和移相干涉技术,实现对样品表面粗糙度、台阶高度、关键部位尺寸及其形貌特征的纳米级三维精密测量。广泛应用于半导体工艺、航空航天、太阳能电池工艺、材料表面工程、MEMS、超精密加工等领域。
       ● 测量精度重复性达到世界先进水平
       ● 关键硬件采用美国、德国、日本等知名品牌
       ● 配备进口第三方校准标准件
       ● 高性价比微观形貌测量设备
       ● 迅捷、高效的优质售后服务
应用领域:


国内数家知名上市企业12寸产线配置NanoX-2000测试设备



NanoScopy 光机电一体化系统软件:
       ● 美国硅谷研发、中英文自由切换
       ● 光机电一体化软硬件集成
       ● 缩放、定位、平移、旋转等三维图像处理
       ● 自主设定测量阈值,三维处理自动标注
       ● 测量模式可根据需求自由切换
       ● 三维图像支持高清打印
       ● 菜单式参数设置,一键式操作,人机界面个性直观
       ● 个性化软件应用支持
       ● 可进行软件在线升级和远程支持服务

中国计量院认证书:



满足您需求而设计的测量设备
覆盖范围广
      兼容多种测量和观察需求
保护性
      非接触式光学干涉测量
可操作性
      “一键式”操作更简单、更高效
智能化
      特殊形状智能计算特征参数
个性化
      定制化测试报告
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